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更新日期: 2025-06-01

光盤光固化復(fù)制工藝中玻璃基片表面改性

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光盤光固化復(fù)制工藝中玻璃基片表面改性 4.8

測(cè)定了光固化膜分別與玻璃基片、金屬Ni模的結(jié)合力。采用預(yù)涂PMMA 底化層、使用α型硅烷偶聯(lián)劑和SOLGEL法制備襯底三種方法對(duì)玻璃基片表面進(jìn)行改性并作比較,來選擇合理的、經(jīng)濟(jì)的工藝路線。運(yùn)用此工藝復(fù)制了CD 唱片,并用SEM 觀察復(fù)制信息的微觀形貌

高光潔度玻璃基片的表面散射和體散射測(cè)量 高光潔度玻璃基片的表面散射和體散射測(cè)量 高光潔度玻璃基片的表面散射和體散射測(cè)量

高光潔度玻璃基片的表面散射和體散射測(cè)量

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提出了一種利用總積分散射(tis)測(cè)量k9玻璃基片表面散射和體散射的實(shí)驗(yàn)方法。首先采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積厚度為幾十nm的金屬ag薄膜,然后將基片的表面和體區(qū)分開考慮,通過tis測(cè)得了基片上下表面的均方根粗糙度,進(jìn)而求得基片的總散射和表面散射,最后計(jì)算得到了體散射。分別利用tis和原子力顯微鏡(afm)測(cè)量了3個(gè)樣品上表面所鍍ag膜的均方根粗糙度,兩種方法所得的均方根粗糙度的數(shù)值相差不明顯,差值分別為0.08,0.11和0.09nm,表明tis和afm的測(cè)量結(jié)果相一致。利用該方法測(cè)得3塊k9玻璃基片的總散射分別為6.06×10-4,5.84×10-4和6.48×10-4,表面散射介于1.25×10-4~1.56×10-4之間,由此計(jì)算得到的體散射分別為3.10×10-4,3.30×10-4和3.61×10-4。

玻璃基片雙面光刻對(duì)準(zhǔn)工藝流程的研究 玻璃基片雙面光刻對(duì)準(zhǔn)工藝流程的研究 玻璃基片雙面光刻對(duì)準(zhǔn)工藝流程的研究

玻璃基片雙面光刻對(duì)準(zhǔn)工藝流程的研究

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介紹了雙面光刻對(duì)準(zhǔn)原理及技術(shù)新發(fā)展,表明了不變焦對(duì)準(zhǔn)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。針對(duì)玻璃基片設(shè)計(jì)了十字加方框的對(duì)準(zhǔn)圖樣,經(jīng)重新調(diào)焦,利用基片透明屬性透過基片標(biāo)記觀測(cè)掩模標(biāo)記實(shí)現(xiàn)對(duì)準(zhǔn),不再采用靜態(tài)存儲(chǔ)的掩模數(shù)字圖像作為精對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn),規(guī)避了可能由物鏡側(cè)移帶來的對(duì)準(zhǔn)誤差。最后提供了幾種常用的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖樣,并為了加工操作的便利引入了輔助搜索線。

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玻璃微流控芯片表面改性的微觀機(jī)理研究 玻璃微流控芯片表面改性的微觀機(jī)理研究 玻璃微流控芯片表面改性的微觀機(jī)理研究

玻璃微流控芯片表面改性的微觀機(jī)理研究

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玻璃微流控芯片表面改性的微觀機(jī)理研究 4.3

在玻璃微流控芯片通道表面用硅烷化試劑二氯二甲基硅烷進(jìn)行處理后,二氯二甲基硅烷與玻璃通道表面的硅羥基反應(yīng),硅烷基覆蓋在原來的硅羥基上,其結(jié)果為電滲流減小甚至完全消除.進(jìn)一步采用全勢(shì)能線性糕模軌道分子動(dòng)力學(xué)方法,對(duì)表面反應(yīng)的微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行了理論計(jì)算,計(jì)算結(jié)果表明硅羥基中的氫原子與二氯二甲基硅烷中的氯原子結(jié)合形成穩(wěn)定的hcl分子結(jié)構(gòu)而脫離,從而使硅烷基覆蓋在表面上.

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光固化玻璃離子粘接托槽的護(hù)理 光固化玻璃離子粘接托槽的護(hù)理 光固化玻璃離子粘接托槽的護(hù)理

光固化玻璃離子粘接托槽的護(hù)理

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光固化玻璃離子粘接托槽的護(hù)理 4.5

目的探討光固化玻璃離子正畸粘接劑應(yīng)用于托槽粘接的護(hù)理配合經(jīng)驗(yàn)。方法固定正畸患者156例,用光固化玻璃離子正畸粘接劑粘接托槽2120顆。結(jié)果經(jīng)過1.5年的臨床觀察,托槽脫落95顆,脫落率為4.5%。結(jié)論護(hù)士掌握材料的特點(diǎn)和使用方法,有利于完善護(hù)理配合。規(guī)范、嫻熟的護(hù)理配合有利于提高粘接托槽的成功率。

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光盤光固化復(fù)制工藝中玻璃基片表面改性熱門文檔

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一種磁記錄盤玻璃基片離子交換表面增強(qiáng)方法 4.6

一種磁記錄盤玻璃基片離子交換表面增強(qiáng)方法

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芘在玻璃基片表面的單層組裝及其對(duì)有機(jī)銅鹽的選擇性傳感 芘在玻璃基片表面的單層組裝及其對(duì)有機(jī)銅鹽的選擇性傳感 芘在玻璃基片表面的單層組裝及其對(duì)有機(jī)銅鹽的選擇性傳感

芘在玻璃基片表面的單層組裝及其對(duì)有機(jī)銅鹽的選擇性傳感

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芘在玻璃基片表面的單層組裝及其對(duì)有機(jī)銅鹽的選擇性傳感 4.6

將多環(huán)芳烴芘經(jīng)含三乙基四胺結(jié)構(gòu)的連接臂化學(xué)單層組裝于玻璃基質(zhì)表面,制備了一種熒光薄膜材料.熒光測(cè)量結(jié)果表明,醋酸銅、酒石酸銅、檸檬酸銅等有機(jī)銅鹽可以顯著猝滅薄膜熒光,而且猝滅過程可逆;硫酸銅、氯化銅、硝酸銅等無機(jī)銅鹽對(duì)薄膜熒光影響不大;醋酸鋅、醋酸鉛、醋酸鈷、醋酸鎳等其它醋酸鹽對(duì)有機(jī)銅鹽的檢測(cè)影響輕微.熒光壽命測(cè)定表明,醋酸銅對(duì)上述薄膜熒光的猝滅遵循靜態(tài)猝滅機(jī)制.

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濕法玻璃粉體表面改性的研究 濕法玻璃粉體表面改性的研究 濕法玻璃粉體表面改性的研究

濕法玻璃粉體表面改性的研究

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濕法玻璃粉體表面改性的研究 4.5

通過分級(jí)選取不同粒徑的玻璃粉體,研究濕法對(duì)玻璃粉體表面改性的最佳條件,通過ir與tg-dsc分析,表明含20%水的乙醇溶液作為分散劑在70℃下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)得到的粉體表面改性效果較好,失重轉(zhuǎn)變點(diǎn)出現(xiàn)在303℃(280~500目)與323℃(小于500目),較純酒精243℃(280~500目)更高,終止點(diǎn)的溫度也較高,其有機(jī)出峰也更為明顯。同時(shí)研究表明粉體粒徑粗細(xì)與表面改性結(jié)果成反比,隨著粒徑變小改性效果也更好,改性后的玻璃粉體在有機(jī)物質(zhì)中分散比未改性玻璃粉體更為均勻,將改性后玻璃粉調(diào)配成漿料后的流動(dòng)性下降,改性后的漿料流動(dòng)時(shí)間均超過10min。

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深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片 深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片 深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片

深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片

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深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片 4.4

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玻璃微珠表面改性及其應(yīng)用的研究 玻璃微珠表面改性及其應(yīng)用的研究 玻璃微珠表面改性及其應(yīng)用的研究

玻璃微珠表面改性及其應(yīng)用的研究

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玻璃微珠表面改性及其應(yīng)用的研究 4.5

綜述了玻璃微珠表面改性的方法,如化學(xué)反應(yīng)改性、表面包覆改性、高能表面改性和化學(xué)鍍法。并論述了玻璃微珠在復(fù)合材料中的應(yīng)用。

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光盤光固化復(fù)制工藝中玻璃基片表面改性精華文檔

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藍(lán)寶石基片的超光滑表面拋光技術(shù) 4.4

文中介紹了藍(lán)寶石基片的主要拋光方法,包括浮法拋光、機(jī)械化學(xué)拋光、化學(xué)機(jī)械拋光和水合拋光等,對(duì)它們的工作原理、特點(diǎn)作了分析和總結(jié)。

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第六代液晶顯示器玻璃基片

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第六代液晶顯示器玻璃基片 4.8

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二) 大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二) 大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二)

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二) 4.6

近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對(duì)這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡(jiǎn)單的歸納和介紹。

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大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備 大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備 大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備

大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備

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大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備 4.7

以7.4na2o-29.4b2o3-63.2sio2-1tio2(wt%)為玻璃組成,通過熱處理、酸溶液浸析的方法制備了平均孔徑為91.4nm、比表面積為13.786m2/g、孔容為0.3150cm3/g的無裂紋多孔玻璃基片(20×20×1.5mm),采用壓汞儀等測(cè)試分析了酸浸析濃度、酸浸析時(shí)間及酸浸析緩沖劑對(duì)多孔玻璃孔結(jié)構(gòu)和基片碎裂的影響,并利用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察多孔玻璃的顯微結(jié)構(gòu),發(fā)現(xiàn)以0.5mhcl/24h及飽和na2b4o7為酸浸析緩沖劑,可有效防止多孔玻璃碎裂,提高成品率,可為大孔徑的片狀多孔玻璃的發(fā)展和應(yīng)用起到推動(dòng)作用。

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一) 大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一) 大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一)

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一) 4.3

近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對(duì)這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡(jiǎn)單的歸納和介紹。

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光盤光固化復(fù)制工藝中玻璃基片表面改性最新文檔

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光固化法生產(chǎn)玻璃鋼波形瓦 光固化法生產(chǎn)玻璃鋼波形瓦 光固化法生產(chǎn)玻璃鋼波形瓦

光固化法生產(chǎn)玻璃鋼波形瓦

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光固化法生產(chǎn)玻璃鋼波形瓦 4.5

玻璃鋼波形瓦在我國(guó)已得到廣泛的應(yīng)用。而目前我國(guó)生產(chǎn)玻璃鋼瓦所用的基體基本上都是不飽和聚酯樹脂。環(huán)氧雙丙烯酸酯及環(huán)氧雙甲基丙烯酸酯是近年來得到迅速發(fā)展的一類新型不飽和聚酯,其分子結(jié)構(gòu)中具有環(huán)氧樹脂的骨架,兩端含有化學(xué)性能活潑的丙烯酸酯,兼有環(huán)氧樹脂和不飽和聚酯的特點(diǎn),可以象普通不飽和聚酯一樣在引發(fā)劑存在下和交聯(lián)劑作用,可以常溫或加熱固化,還可感光聚合,得到化學(xué)性能和機(jī)械性能良好的產(chǎn)品,因而得到多方

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玻璃基片表面納米結(jié)構(gòu)氧化鋯聚集體組裝的SEM研究及其機(jī)理初探 玻璃基片表面納米結(jié)構(gòu)氧化鋯聚集體組裝的SEM研究及其機(jī)理初探 玻璃基片表面納米結(jié)構(gòu)氧化鋯聚集體組裝的SEM研究及其機(jī)理初探

玻璃基片表面納米結(jié)構(gòu)氧化鋯聚集體組裝的SEM研究及其機(jī)理初探

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玻璃基片表面納米結(jié)構(gòu)氧化鋯聚集體組裝的SEM研究及其機(jī)理初探 4.5

以納米粒子為基組裝的有序結(jié)構(gòu)體系,既具有納米小顆粒本身的性質(zhì),同時(shí)通過納米粒子之間、納米粒子與基體界面的耦合,有望產(chǎn)生新的效應(yīng)。本文利用含有雙親分子的反膠團(tuán)微乳體系,人為處理基底提供活性點(diǎn)模擬生物礦化過程,構(gòu)筑聚集體-基質(zhì)復(fù)合材料,完成玻璃基片表面不同形貌氧化鋯的組裝,并對(duì)機(jī)理進(jìn)行了初步的探討。

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無機(jī)型人造石表面紫外光固化涂膜研究 無機(jī)型人造石表面紫外光固化涂膜研究 無機(jī)型人造石表面紫外光固化涂膜研究

無機(jī)型人造石表面紫外光固化涂膜研究

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無機(jī)型人造石表面紫外光固化涂膜研究 4.8

以kh-550為打底液對(duì)無機(jī)型人造石表面進(jìn)行預(yù)處理,然后以紫外光固化涂料罩光。討論了低聚物和活性稀釋單體的組成、消泡劑種類和kh-550的用量對(duì)人造石表面紫外光固化涂膜性能的影響。結(jié)果表明,以質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%的kh-550對(duì)人造石表面進(jìn)行預(yù)處理后,按低聚物55%,活性稀釋單體40%,光引發(fā)劑和助劑分別為4%和1%的質(zhì)量分?jǐn)?shù)配制光固化涂料,當(dāng)?shù)途畚镏协h(huán)氧丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯的質(zhì)量比為8∶3,活性稀釋單體中苯乙烯、1,6–己二醇二丙烯酸酯與三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的質(zhì)量比為1∶2∶1時(shí),所配制的紫外光固化涂料固化后,可在人造石表面獲得硬度3h、附著力為1級(jí)、光澤度93°且耐酸性好的涂膜,改善了無機(jī)型人造石的表面性能。

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表面改性技術(shù)

表面改性技術(shù)

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表面改性技術(shù) 4.4

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激光表面改性油管與接箍磨損配合研究 激光表面改性油管與接箍磨損配合研究 激光表面改性油管與接箍磨損配合研究

激光表面改性油管與接箍磨損配合研究

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激光表面改性油管與接箍磨損配合研究 4.8

油田機(jī)采井抽油桿接箍與油管在工作狀態(tài)下構(gòu)成滑動(dòng)摩擦副,同時(shí)還承受介質(zhì)腐蝕和交變載荷,產(chǎn)生磨損、腐蝕和疲勞斷裂失效。為了解決有桿泵井的管桿偏磨問題,采用5kw橫流co2激光器對(duì)油管內(nèi)壁和接箍表面進(jìn)行強(qiáng)化處理,并進(jìn)行摩擦磨損試驗(yàn)。結(jié)合激光強(qiáng)化層的組織分析,對(duì)比研究不同油管接箍構(gòu)成的摩擦副的摩擦磨損性能。結(jié)果表明:激光相變硬化油管與激光熔覆ni35接箍的配合效果比較理想;在摩擦磨損過程中,管桿間磨損以磨粒磨損為主。

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5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究 5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究 5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究

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5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究 4.6

玻璃基片是制作光盤的重要元件。本文介紹了玻璃光盤基片的離子交換增強(qiáng)原理和方法,給出了鈉鈣硅玻璃離子交換增強(qiáng)處理結(jié)果和直徑130mm增強(qiáng)玻璃光盤基片的技術(shù)性能。

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光固化安全夾層玻璃生產(chǎn)工藝控制 4.3

以丙烯酸酯光固化夾層玻璃膠為例,較詳細(xì)地討論了光固化安全夾層玻璃主要工藝過程及易出現(xiàn)的問題和相應(yīng)的解決辦法

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光固化復(fù)合樹脂凝膠玻璃化后固化收縮量評(píng)價(jià) 光固化復(fù)合樹脂凝膠玻璃化后固化收縮量評(píng)價(jià) 光固化復(fù)合樹脂凝膠玻璃化后固化收縮量評(píng)價(jià)

光固化復(fù)合樹脂凝膠玻璃化后固化收縮量評(píng)價(jià)

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光固化復(fù)合樹脂凝膠玻璃化后固化收縮量評(píng)價(jià) 4.4

目的評(píng)價(jià)光固化復(fù)合樹脂在凝膠點(diǎn)后特別是玻璃化后的固化收縮量,以期為深入研究光固化復(fù)合樹脂的固化收縮特性提供新的評(píng)價(jià)方法。方法利用本實(shí)驗(yàn)室自主研制開發(fā)的一種基于激光測(cè)距技術(shù)的固化收縮測(cè)量?jī)x,獲得5種光固化復(fù)合樹脂自光照開始后300s內(nèi)的固化收縮量一時(shí)間曲線和固化收縮速率.時(shí)間曲線,并通過收縮速率-時(shí)間曲線計(jì)算凝膠點(diǎn)和轉(zhuǎn)變點(diǎn)v以及凝膠點(diǎn)后及玻璃化后的固化收縮量。結(jié)果5種光固化復(fù)合樹脂的凝膠點(diǎn)為0.77—1.59s,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(p〈0.01);轉(zhuǎn)變點(diǎn)v為1.99~6.33s,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(p〈0.01);凝膠點(diǎn)后收縮量為33.35~53.18μm,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(p〈0.01);玻璃化后收縮量為16.43—30.58μm,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(p〈0.01);總收縮量為39.25~64.84μm,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(p〈0.01)。5種光固化復(fù)合樹脂凝膠點(diǎn)后收縮量及玻璃化后收縮量的順序與總收縮量的順序有所不同。結(jié)論通過動(dòng)態(tài)測(cè)量光固化復(fù)合樹脂固化收縮量,可推測(cè)凝膠點(diǎn)和轉(zhuǎn)變點(diǎn)v,從而獲得更具有實(shí)用意義的復(fù)合樹脂固化收縮特性評(píng)價(jià)參考值。

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直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜

直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜

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直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 4.4

采用直流反應(yīng)磁控濺射法在玻璃片上制備了tin薄膜,研究不同制備工藝條件與薄膜性能之間的關(guān)系。用紫外-可見光分光光度計(jì)測(cè)試了不同沉積時(shí)間和n2流量條件下tin薄膜透光率;用x射線衍射儀分析了不同n2流量和濺射功率條件下tin薄膜結(jié)構(gòu);用掃描電鏡(sem)觀察了tin薄膜的表面腐蝕形貌,用恒電位儀對(duì)tin薄膜的耐腐蝕性進(jìn)行了分析。結(jié)果表明:當(dāng)沉積時(shí)間為2min,n2流量為15ml/min時(shí),在可見光區(qū)有較高的透光率,在近紅外區(qū)的透光率很低;當(dāng)n2流量為15ml/min,濺射功率為4kw時(shí),tin薄膜的結(jié)晶最致密;當(dāng)濺射功率為4kw時(shí),tin薄膜具有較好的耐腐蝕性。

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基因芯片制作中玻璃介質(zhì)表面處理對(duì)DNA固定率的影響 基因芯片制作中玻璃介質(zhì)表面處理對(duì)DNA固定率的影響 基因芯片制作中玻璃介質(zhì)表面處理對(duì)DNA固定率的影響

基因芯片制作中玻璃介質(zhì)表面處理對(duì)DNA固定率的影響

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基因芯片制作中玻璃介質(zhì)表面處理對(duì)DNA固定率的影響 4.6

用顯微鏡載玻片作為基因芯片制作中dna固定介質(zhì)材料,對(duì)玻片表面分別進(jìn)行醛基化、異硫氰酸基化、氨基化等不同修飾處理,分析其對(duì)dna固定率的影響,并比較了國(guó)產(chǎn)與進(jìn)口玻片處理間的差異.結(jié)果表明,異硫氰酸基化處理玻片dna固定率高于醛基化、氨基化處理,接近進(jìn)口的氨基化玻片,但不同處理間及國(guó)產(chǎn)與進(jìn)口玻片間差異不顯著

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