低壓沉積-微弧氧化制備鈦金屬HA-TiO_2復(fù)合膜層
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4.8
采用低壓沉積-微弧氧化法,在鈦金屬表面直接制備了具有生物活性的HA-TiO2復(fù)合膜層,通過(guò)XRD和SEM分別分析了膜層的相結(jié)構(gòu)和表面形貌,探討了沉積參數(shù)對(duì)膜層中HA含量與表面形貌的影響。結(jié)果表明:低壓沉積處理是微弧氧化法制備HA-TiO2復(fù)合膜層的必要條件;復(fù)合膜層主要由金紅石型和銳鈦礦型TiO2及HA組成,HA以白色團(tuán)簇狀存在于膜層之中,或粘附在陶瓷層表面,膜層中的HA含量隨電解液中HA添加量的增加而升高。隨HA含量增加,膜層孔洞明顯增加;沉積電壓從30V增加至120V,HA含量增加;沉積時(shí)間超過(guò)15min,HA含量增加趨于平緩。
鎂合金復(fù)合微弧氧化工藝的研究
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開(kāi)發(fā)添加al2o3納米粉體的復(fù)合微弧氧化電解液體系。確定最佳的工藝條件為:硅酸鈉與焦磷酸鈉(質(zhì)量比7∶3)12g/l,氫氧化鈉7g/l,al2o33g/l,復(fù)合添加劑a1(氟化鈉2g/l,丙三醇10ml/l,鎢酸鈉1g/l),溶液溫度35℃,氧化時(shí)間20min。
具有生物活性的多孔鈦金屬?gòu)?fù)合支架的制備
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以鈦粉為原料,采用有機(jī)泡沫浸漬法制備高孔隙率的開(kāi)孔網(wǎng)狀多孔ti金屬支架,并采用電化學(xué)沉積和生物仿生礦化的方法在支架表面沉積磷酸鈣鹽涂層。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,兩種方法均可以在多孔ti金屬支架表面沉積具有良好生物活性的納米網(wǎng)狀ca-p涂層且不影響其三維貫通結(jié)構(gòu)。因此所制備的多孔ti金屬?gòu)?fù)合支架不僅擁有良好的力學(xué)性能,而且具有良好的生物學(xué)性能,有望應(yīng)用于臨床。
漆酚甲醛縮聚物/氧化鐠復(fù)合膜的制備與表征
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4.6
由漆酚甲醛縮聚物(puf)與三氯化鐠反應(yīng)合成漆酚縮甲醛鐠聚合物(pufpr),pufpr在氫氧化鈉水溶液中沸煮可得到漆酚甲醛縮聚物/三氧化二鐠(puf/pr2o3)復(fù)合膜,紅外光譜、dmta和掃描電鏡等對(duì)其結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征。結(jié)果表明:puf與prcl3反應(yīng)后其酚羥基數(shù)目減少,側(cè)鏈進(jìn)一步交聯(lián)聚合,pufpr的玻璃化溫度較puf的高。puf/pr2o3復(fù)合材料出現(xiàn)了兩個(gè)玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,從掃描電鏡中可觀察到pr2o3環(huán)形微晶。
鋁合金微弧氧化膜白色斑點(diǎn)成因分析
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4.6
用硅酸鹽體系電解液進(jìn)行鋁合金微弧氧化時(shí),氧化膜表面出現(xiàn)白色斑點(diǎn)狀物,影響零件質(zhì)量和外觀,對(duì)這種白色斑點(diǎn)狀物進(jìn)行eds和xrd成分測(cè)試,同時(shí)還對(duì)形成原因進(jìn)行分析。結(jié)果表明,白色斑點(diǎn)狀物是由sio2聚集而成。
熔鹽法Cf/SiC復(fù)合材料表面鈦金屬化研究
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4.3
為了實(shí)現(xiàn)c/sic復(fù)合材料與難熔金屬的連接,通過(guò)熔鹽法在c/sic復(fù)合材料表面沉積鈦金屬層.用sem和eds研究金屬化層的形貌及成分;用x射線衍射分析金屬化層的相組織:用定量金相法測(cè)量釬焊料的鋪展特性.研究表明:鈦金屬化層均勻致密,與基體結(jié)合緊密,鈦金屬可滲入纖維間孔隙,比較完整地包覆在c/sic復(fù)合材料外表面.金屬化層主要成分為tic、ti5si3.金屬化層與sic界面分為3層,由內(nèi)到外主要成分為ti5si3、tic和ti5si3.表面金屬化后的c/sic復(fù)合材料與鈦合金釬焊料潤(rùn)濕性明顯改善,潤(rùn)濕角從153.9°降低為13.2°.
Nafion/SiO_2/PTFE復(fù)合膜的制備及性能
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4.5
采用nafion/sio2溶液和多孔ptfe薄膜為原料,制備了nafion/sio2/ptfe復(fù)合膜。sem圖片表明:復(fù)合膜具有良好的樹(shù)脂填充度;ftir測(cè)試表明:sio2被引入到復(fù)合膜中,沒(méi)有影響膜的本體結(jié)構(gòu);tg-dta測(cè)試表明:復(fù)合膜具有良好的保水性能。充放電測(cè)試表明:由于sio2的保水作用,復(fù)合膜在高電流密度時(shí)(>0.4a/cm2)具有更好的輸出能力。
鋁合金微弧氧化起弧臨界條件及膜層生長(zhǎng)特點(diǎn)
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4.8
為了給研究微弧氧化起弧的能量臨界條件奠定基礎(chǔ),以達(dá)到制備高產(chǎn)能、低能耗微弧氧化裝備的目的,對(duì)微弧氧化起弧前后不同氧化時(shí)間的鋁合金6061試樣進(jìn)行了電性能測(cè)試、能譜成分分析和掃描電鏡表面形貌分析,測(cè)定了微弧氧化起弧的表面臨界條件,揭示了起弧前試樣表面變化過(guò)程和起弧后陶瓷層的生長(zhǎng)特點(diǎn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:鋁合金起弧的表面臨界條件是試樣的整個(gè)表面覆蓋一層電阻為04ω的alxoy膜;起弧前,非晶態(tài)alxoy氧化物以點(diǎn)面方式生長(zhǎng);起弧后,起弧面呈樹(shù)枝狀生長(zhǎng),膜層電阻快速增大。
硅酸鈉添加量對(duì)微弧氧化膜層特性影響研究
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4.4
本文采用五種添加量(5、10、15、20、25g/l)的硅酸鈉溶液為基礎(chǔ)電解液,以純鈦為基體材料進(jìn)行微弧氧化處理,通過(guò)對(duì)得到的微弧氧化陶瓷膜進(jìn)行膜層厚度、顯微硬度、表面形貌、相結(jié)構(gòu)、耐蝕性等性能的檢測(cè)與分析,得出不同硅酸鈉添加量對(duì)微弧氧化膜層的影響規(guī)律.
鈦金屬?gòu)?fù)合材料將被應(yīng)用于波因787飛機(jī)的制造
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4.7
gkn航空公司與波因公司簽定了開(kāi)發(fā)、供應(yīng)制造波因787飛機(jī)用鈦金屬?gòu)?fù)合材料制推力連桿的合同。這是鈦金屬?gòu)?fù)合材料首次得到商業(yè)應(yīng)用,鈦金屬?gòu)?fù)合材料是一種由碳化硅纖維和鈦金屬構(gòu)成的高級(jí)工程材料,鈦金屬?gòu)?fù)合材料的強(qiáng)度和硬度高于普通鈦合金。與鋼或鎳合金相比,使用鈦金屬?gòu)?fù)合材料可減重25%-40%。fmw復(fù)合材料系統(tǒng)有限公司開(kāi)發(fā)了一種制造鈦金屬?gòu)?fù)合材料的新工藝,
原位聚合沉積制備聚苯胺/聚酰亞胺/聚苯胺復(fù)合膜
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4.5
以聚酰亞胺(pi)膜為基體,采用分散聚合原位沉積方法制得聚苯胺/聚酰亞胺/聚苯胺(pani/pi/pani)三層復(fù)合膜。復(fù)合膜表面pani層外觀質(zhì)量?jī)?yōu)異,電導(dǎo)率達(dá)10~0s/cm。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:加入高濃度空間穩(wěn)定劑(聚乙烯吡咯烷酮,pvp)、調(diào)整氧化劑(過(guò)硫酸銨,aps)和介質(zhì)酸(鹽酸)的用量可制得表面質(zhì)量和電導(dǎo)率高的復(fù)合膜。較適宜的反應(yīng)條件為穩(wěn)定劑質(zhì)量濃度4%,aps與苯胺(an)的物質(zhì)的量比為2:4,鹽酸濃度為0.5mol/l。
納米ZnO/HDPE復(fù)合膜的制備和性能研究
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4.7
本文通過(guò)熔融共混和模壓技術(shù)制備得到納米氧化鋅/高密度聚乙烯(納米-zno/hdpe)復(fù)合膜,并考察了該膜的微觀形態(tài)、機(jī)械性能、結(jié)晶性能以及阻隔性。結(jié)果發(fā)現(xiàn),復(fù)合膜中改性納米zno的含量較低(0.5wt%)時(shí),納米zno在hdpe中具有較好的分散性。隨著改性納米zno含量的增加,復(fù)合膜的拉伸強(qiáng)度和撕裂強(qiáng)度先增大后減小,zno含量為0.5wt%時(shí),綜合力學(xué)性能最佳。此外,改性納米zno的添加能提高h(yuǎn)dpe的結(jié)晶度,并能增強(qiáng)復(fù)合膜的阻隔性能。
AZ91D鎂合金微弧氧化膜的高溫氧化性能
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4.8
采用微弧氧化技術(shù)首次在az91d鎂合金表面原位制備含zro2-y2o3的復(fù)合陶瓷膜。利用esem、spm、xrd和高溫氧化等手段研究了微弧氧化膜的形貌、相組成及高溫氧化性能。結(jié)果表明,微弧氧化膜表面呈多孔結(jié)構(gòu),微孔平均直徑小于2μm,截面是由疏松層和致密層組成的雙層結(jié)構(gòu);微弧氧化膜中的主要存在相有c-zro2、t-zro2、y2o3、al2o3、mgo、mgf2和mgal2o4;在不同的加熱溫度和氧化時(shí)間下,微弧氧化膜的耐高溫氧化性能較之鎂合金基體均有顯著提高。
ZL205A鋁合金微弧氧化研究
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4.8
利用微弧氧化技術(shù)在zl205a鋁合金表面制備陶瓷層;用掃描電鏡對(duì)膜層形貌及結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察,分析了膜層典型形貌的形成過(guò)程;用x射線衍射儀對(duì)膜層相組成進(jìn)行分析;對(duì)不同厚度微弧氧化膜層的試樣進(jìn)行鹽霧試驗(yàn)。結(jié)果表明:所制得的膜層由α-al2o3、γ-al2o3及δ-al2o3組成;膜層厚度小于30μm時(shí),耐蝕性能隨著膜層厚度的增大提高明顯,當(dāng)膜厚為30~50μm時(shí),耐蝕性能隨著膜厚的增加提高幅度減小,膜厚大于50μm時(shí),其耐蝕性能變化不明顯。
鎂合金硅酸鹽及復(fù)合體系微弧氧化的研究進(jìn)展
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4.3
1前言鎂合金被譽(yù)為"21世紀(jì)最具發(fā)展?jié)摿Φ木G色工程材料"。但易被腐蝕而限制了鎂合金的開(kāi)發(fā)與應(yīng)用。適當(dāng)?shù)谋砻嫣幚?如電鍍、化學(xué)鍍、金屬涂層、陽(yáng)極氧化、化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理、激光處理和離子注入等能夠極大地改善鎂合金的耐腐蝕性能等,擴(kuò)大了鎂合金的使用范圍[1,2]。其中微弧氧化是在適當(dāng)?shù)碾娊赓|(zhì)
鋁質(zhì)復(fù)合脫氧劑中金屬鋁和三氧化二鋁的物相分析
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4.6
利用金相顯微鏡和x-射線衍射儀對(duì)鋁質(zhì)復(fù)合脫氧劑進(jìn)行物相定性分析。試樣經(jīng)強(qiáng)堿溶解,h2o2助溶,以適量硝酸中和強(qiáng)堿并溶解鹽類,過(guò)濾使金屬鋁與三氧化二鋁分離。對(duì)沉淀物進(jìn)行低溫灰化處理,加助熔劑進(jìn)行高溫熔融,用鹽酸浸取,以氟鹽置換edta絡(luò)合滴定法測(cè)定。研究了樣品的粒度、溶樣方法以及水溶性鋁等對(duì)測(cè)定的影響。將該法用于鋁質(zhì)復(fù)合脫氧劑中金屬鋁和三氧化二鋁的測(cè)定,加標(biāo)回收率在97%~105%之間,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差不大于1.0%,金屬鋁的本法測(cè)定結(jié)果和高價(jià)金屬鹽氧化絡(luò)合返滴定法測(cè)定結(jié)果進(jìn)行比對(duì),結(jié)果一致。實(shí)驗(yàn)表明,方法解決了鋁質(zhì)復(fù)合脫氧劑中金屬鋁與三氧化二鋁分離困難,樣品測(cè)定結(jié)果的精密度和準(zhǔn)確度均較好,適于鋁質(zhì)復(fù)合脫氧劑中金屬鋁及三氧化二鋁的物相分析。
鈦金屬在骨組織工程中的應(yīng)用進(jìn)展
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頁(yè)數(shù):未知
4.8
鈦金屬具有良好的力學(xué)性能和彈性模量,抗腐蝕性好,生物相容性高,已逐步被應(yīng)用于臨床。鈦金屬及鈦金屬?gòu)?fù)合材料作為骨科替代材料適用于成骨細(xì)胞的外環(huán)境,不僅能提高植入材料與周圍骨組織的整合性,還能增強(qiáng)成骨細(xì)胞的功能性,促進(jìn)骨組織再形成?,F(xiàn)就鈦金屬及其鈦合金復(fù)合材料的生物相容性、生物力學(xué)性能等方面的研究進(jìn)展及其在骨科中的應(yīng)用進(jìn)展予以綜述。
鈀復(fù)合膜制備方法與支撐體研究進(jìn)展
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4.8
介紹了鈀復(fù)合膜的工作原理和性能特性,并從制備方法和多孔支撐體材料2個(gè)方面對(duì)鈀復(fù)合膜分離器進(jìn)行了總結(jié)?;瘜W(xué)鍍是制備復(fù)合膜最常用的制備方法,修飾層、還原劑滲透以及與pvd相結(jié)合的化學(xué)鍍復(fù)合制備方法能夠有效地改善鈀復(fù)合膜的質(zhì)量;增厚法、滲透法、填充法等鈀膜修復(fù)方法則能夠提高鈀膜的成品率。目前主流的支撐體材料是多孔金屬支撐體和多孔陶瓷支撐體,通過(guò)制備中間層、優(yōu)化支撐體材料以及非勻質(zhì)支撐體等方法能夠提高鈀復(fù)合膜的質(zhì)量,多孔玻璃、多孔有機(jī)聚合物等新材料的開(kāi)發(fā)也成為未來(lái)的發(fā)展方向。
復(fù)合型柵氧化層薄膜雙柵MOSFET研究
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4.8
通過(guò)對(duì)硅膜中最低電位點(diǎn)電位的修正,得到復(fù)合型柵氧化層薄膜雙柵mosfet亞閾值電流模型以及閾值電壓模型。利用medici軟件,針對(duì)薄膜雙柵mosfet,對(duì)四種復(fù)合型柵氧化層結(jié)構(gòu)didgmosfet(dualinsulatordoublegatemosfet)進(jìn)行了仿真。通過(guò)仿真可知:在復(fù)合型結(jié)構(gòu)中,隨著介電常數(shù)差值的增大,薄膜雙柵器件的短溝道效應(yīng)和熱載流子效應(yīng)得到更有效的抑制,同時(shí)擊穿特性也得到改善。此外在亞閾值區(qū)中,亞閾值斜率也可以通過(guò)柵氧化層設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化,復(fù)合型結(jié)構(gòu)器件的亞閾值斜率更小,性能更優(yōu)越。
Pd-Ag/PTFE復(fù)合膜的制備及表征
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4.3
本文以不同孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)為基膜,采用化學(xué)鍍法分別將ag、pd沉積到ptfe膜孔及膜面上,制得了鍍層均勻、結(jié)合力較好的pd-ag/ptfe復(fù)合膜,并考察了ptfe基膜孔徑對(duì)鍍層結(jié)合力的影響,以及化學(xué)鍍工藝對(duì)金屬鈀沉積速率、復(fù)合膜孔結(jié)構(gòu)和截面電阻率的影響。結(jié)果表明,適當(dāng)?shù)幕た捉Y(jié)構(gòu)有利于提高鍍層結(jié)合力;ptfe膜經(jīng)化學(xué)鍍修飾后,孔徑減小,孔徑分布變窄,孔隙率降低,膜截面電阻率降低106數(shù)量級(jí),且孔徑減小順序與截面電阻率減小順序一致。
模板法制備Fe-Ni/PTFE復(fù)合膜
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4.5
采用模板法和化學(xué)鍍相結(jié)合的方法,初步制備了fe-ni/ptfe無(wú)機(jī)磁性復(fù)合膜,并考察主要影響因素:fe2+/ni2+、ph、反應(yīng)時(shí)間、溫度對(duì)其單位質(zhì)量磁化率的影響,獲得了制備fe-ni/ptfe的較佳條件。發(fā)現(xiàn)fe2+/ni2+和溶液ph對(duì)磁化率的影響比較大,引入外加電場(chǎng)作用后,磁化率明顯增加。
濺射—陽(yáng)極氧化法在釉面磚上制備多彩TiO_2膜
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4.6
采用直流磁控濺射法先在釉面磚上鍍制一層ti膜,然后采用陽(yáng)極氧化法制備透明的tio2薄膜。根據(jù)光的干涉原理,控制tio2膜的厚度,制備了土黃、深蘭、淺蘭、金黃、粉紅、紫紅、綠色等十余種顏色的金屬化裝飾面磚
純鈦材微弧氧化電參數(shù)對(duì)陶瓷層組織結(jié)構(gòu)的影響
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4.4
以往就純鈦材表面微弧氧化陶瓷層表面積對(duì)提供羥基磷灰石生長(zhǎng)條件的研究不多,為此,在na2hpo4電解液中,采用微弧氧化法在純鈦材表面制得多孔結(jié)構(gòu)的二氧化鈦陶瓷層。研究了正向電壓、頻率對(duì)微弧氧化陶瓷層組織結(jié)構(gòu)的影響。結(jié)果表明,隨正向電壓升高,膜厚增加,孔徑增大,表面變得粗糙;隨頻率的增加,膜層表面變得光滑,孔徑減小,膜厚減小;在正向電壓450v、頻率600hz時(shí)得到均勻的多孔結(jié)構(gòu);陶瓷層主要由銳鈦礦型tio2和少量非晶組成,有利于羥基磷灰石生長(zhǎng)。
復(fù)合外套金屬氧化物避雷器
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4.6
復(fù)合外套金屬氧化物避雷器 用途: 氧化鋅避雷器用于保護(hù)交流電力系統(tǒng)的電器設(shè)備免遭大氣過(guò)電壓和操作過(guò)電壓損壞。 產(chǎn)品型號(hào): 以hy5ws-17/50為例 h-有機(jī)復(fù)合外套 y-金屬氧化物避雷器 5-標(biāo)稱放電電流(ka) w-w表示無(wú)間隙、c表示串聯(lián)間隙 s-s表示配電、z電站、d電機(jī)型、r電熔型、l防爆脫離型 17-避雷器的額定電壓(kv) 50-標(biāo)稱放電電流下最大殘壓(kv) 使用條件: 1、環(huán)境溫度范圍-40℃~+40℃ 2、海拔不超過(guò)2000m(高原地區(qū)定貨時(shí)應(yīng)說(shuō)明) 3、電源頻率為48-62hz 4、最大風(fēng)速不超過(guò)35m/s 5、地震強(qiáng)度7級(jí)以下地區(qū) 長(zhǎng)期施加在避雷器上的工頻電壓不超過(guò)避雷器持續(xù)運(yùn)行電壓。 主要參數(shù): 型號(hào)避雷器 額定電 壓(kv) 系統(tǒng)標(biāo) 稱電壓 (有效 值)(kv) 持續(xù)運(yùn) 動(dòng)電壓 (有效 值)(kv)
石墨-金屬?gòu)?fù)合材料的制備及應(yīng)用
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4.5
石墨烯有特殊的二維結(jié)構(gòu)和優(yōu)異的物理、化學(xué)及機(jī)械性能,作為強(qiáng)化相可以有效改善材料的強(qiáng)度、硬度、耐磨性、導(dǎo)電性等。高性能石墨烯-金屬?gòu)?fù)合材料的應(yīng)用廣泛,既可作為結(jié)構(gòu)材料使用,也可以作為超級(jí)電容器、鋰電池、生物傳感器和儲(chǔ)氫材料。本文對(duì)石墨烯-金屬?gòu)?fù)合材料的主要制備方法及及其應(yīng)用做了簡(jiǎn)單的介紹,并概括了其今后可能的發(fā)展方向。
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職位:鐵路工程
擅長(zhǎng)專業(yè):土建 安裝 裝飾 市政 園林