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更新時(shí)間:2025.05.17
光-Fenton氧化破解剩余污泥和改善污泥脫水性能

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利用紫外光-Fenton(光-Fenton)氧化處理城市剩余污泥,通過上清液的SCOD、多聚糖以及蛋白質(zhì)濃度表征污泥胞外聚合物(EPS)的破解情況,通過污泥過濾比阻(SRF)和濾餅含水率表征污泥脫水性能的變化。結(jié)果表明,光-Fenton氧化破解污泥EPS和改善污泥脫水性能的效能明顯優(yōu)于單獨(dú)Fenton反應(yīng)和單獨(dú)紫外光照射處理。pH為3、反應(yīng)時(shí)間為2h,H2 O2投加量為4 g/L和Fe2+投加量為0.6 mg/L是光-Fenton氧化處理供試污泥的適宜條件。在適宜處理?xiàng)l件下,污泥上清液中的SCOD、多聚糖和蛋白質(zhì)濃度分別由67.46 mg/L、12.53 mg/L和8.62 mg/L增加到568.12 mg/L、448.62 mg/L和292.94 mg/L;SRF和濾餅含水率分別由2.4×109 s2/g和88.52%下降至5.26×108 s2/g和76.36%。光-Fenton反應(yīng)在有效破解污泥的同時(shí),提高了污泥的脫水性能,有利于污泥的減量化。

高壓脈沖電凝-Fenton氧化工藝處理制藥廢水試驗(yàn)研究

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采用高壓脈沖電凝-Fenton氧化工藝對(duì)制藥廢水進(jìn)行處理,探討了進(jìn)水pH值、極板間距、反應(yīng)時(shí)間、H2O2投加量等因素對(duì)去除制藥廢水CODCr的影響。研究表明:高壓脈沖電凝-Fenton氧化法的最佳工況條件為:進(jìn)水pH值為4左右、極板間距為20 mm、電流強(qiáng)度為10 A、高壓脈沖電凝反應(yīng)時(shí)間為45 min、H2O2投加量為4mL/L、Fenton氧化時(shí)間為60 min。在此反應(yīng)條件下,該處理工藝對(duì)CODCr去除率為36.5%~39.2%,廢水m(BOD5)/m(CODCr)從0.13提高到0.37,可生化性大大提高,為后續(xù)處理工藝的達(dá)標(biāo)排放奠定了基礎(chǔ)。

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